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双脉冲偏压雷火电竞平台官网

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    应用于工具镀、多弧、磁控,离子体增强及化学气相沉积。

    主要作用被镀工件表面的辉光清洗、镀膜前的离子轰击和沉积时的离子加速

    1:主回路拓扑采用PFC+全桥构架  结合ARM+DSP数字控制技术  

    2:频率10-100KHZ 正负脉冲输出  

    3:内置灭弧时间设置10us-100us适应不同的工艺及靶材 打弧显示计数

    4:同时检测 V-ARC & I-ARC 快速切断输出  同时启动内置专利技术消除残余电弧能量,避免基片放电打弧,确保高精膜层 ,提高镀件的成品率,表面光洁度和膜层结合力

    6:合理调节频率  间隙时间(1-10us),可改善和控制成膜速度和温度,增加膜层结合力 致密性 提高沉积率

    7:脉冲/直流 任意切换  满足不同的工艺及基片材料要求

    8:输出电压0-1100V 无需换挡 辉光清洗和离子轰击   无缝对接到   沉积时的离子加速

    9:操作可面板控制  远程PLC 控制模拟量   PROFIBUS 通讯

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